蠕動(dòng)泵的應(yīng)用十分廣泛，如果你認(rèn)為只有在和流體相關(guān)的行業(yè)使用蠕動(dòng)泵產(chǎn)品那就大錯(cuò)特錯(cuò)了，下面蠕動(dòng)泵生產(chǎn)廠(chǎng)家思諾流體小編為大家詳細(xì)講解微型蠕動(dòng)泵在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用。
半導(dǎo)體制造要求始終控制工藝工具中的液體流動(dòng)，苛刻的應(yīng)用之一是化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP）。當(dāng)CMP工具不能將一致的漿料速率分配到拋光基材上時(shí)，它會(huì)對(duì)產(chǎn)量，化學(xué)品使用和材料完整性產(chǎn)生極大的負(fù)面影響。晶圓厚度的變化，缺陷密度的增加，工具停機(jī)時(shí)間和晶圓廢料的增加只是流程控制不良可能導(dǎo)致的一些問(wèn)題。
微型蠕動(dòng)泵非常適合半導(dǎo)體行業(yè)的高純度和腐蝕性化學(xué)環(huán)境，對(duì)于CMP，提供了在拋光過(guò)程中的使用點(diǎn)漿料流分配到晶片所需的線(xiàn)性和可重復(fù)性，低剪切力對(duì)CMP漿料溫和，其變速操作允許在很寬的操作范圍內(nèi)控制流量，以保持過(guò)程的完整性。
漿料的性能可實(shí)現(xiàn)的晶圓平面度，微型蠕動(dòng)泵通過(guò)控制漿料輸送和分配，有助于實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。小流量蠕動(dòng)泵的非侵入式設(shè)計(jì)提供了直的流動(dòng)路徑，沒(méi)有死流區(qū)域，使?jié){料凝聚，硬化并污染過(guò)程。流速達(dá)到±0.5％。提供的穩(wěn)定的流體輸送不僅可確保漿料不斷流向拋光墊，還可減少漿料，化學(xué)品和去離子水的浪費(fèi)。
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